Kanji Yasui: "Growth of high quality SiC films on Si by triode plasma CVD using monomethylsilane"Appl.Surf.Sci.. (in press). (2001)
Kanji Yasui: "Growth of high quality SiC films on Si by triode plasma CVD using monomethylsilane"Appl.Surf.Sci.. (in press). (2001)
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Kanji Yasui：“使用单甲基硅烷通过三极等离子体 CVD 在硅上生长高质量 SiC 薄膜”Appl.Surf.Sci..（出版中）。
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