デュアルSIL構造をもつSTOにおいて注入電流密度低減のためのSILの飽和磁化及び膜厚
デュアルSIL構造をもつSTOにおいて注入電流密度低減のためのSILの飽和磁化及び膜厚
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用于降低具有双 SIL 结构的 STO 中的注入电流密度的 SIL 饱和磁化强度和膜厚度
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉田和悦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
加瀬愛菜;上村朋子;赤城文子;吉田和悦
