The Effect of crystal Orientation Distribution on Sputtering Rates in Polycrystalline Tungsten by Low Energy Ar Plasma
The Effect of crystal Orientation Distribution on Sputtering Rates in Polycrystalline Tungsten by Low Energy Ar Plasma
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低能Ar等离子体晶体取向分布对多晶钨溅射速率的影响
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Ueda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
B.D. Hattingh;H.T. Lee;K. Ibano;Y. Ueda
