T.Ohmi, H.Iwabuchi, T.Shibata, and T.Ichikawa: "Electrical characterization of epitaxial silicon films formed by a low kinetic energy particle process" Appl.Phys.Lett. 54 PP. 253-255 (1989).
T.Ohmi, H.Iwabuchi, T.Shibata, and T.Ichikawa: "Electrical characterization of epitaxial silicon films formed by a low kinetic energy particle process" Appl.Phys.Lett. 54 PP. 253-255 (1989).
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T.Ohmi、H.Iwabuchi、T.Shibata 和 T.Ichikawa：“低动能粒子工艺形成的外延硅薄膜的电特性”Appl.Phys.Lett。
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