Effects of Hydrogen during Si Etching Processes by Hydrogen Halide Plasma
Effects of Hydrogen during Si Etching Processes by Hydrogen Halide Plasma
复制标题
卤化氢等离子体硅蚀刻过程中氢气的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Satoshi Hamaguchi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Tomoko Ito;Kazuhiro Karahashi;Satoshi Hamaguchi
