剣持妥茂哉,三好隆志,高谷裕浩,高橋哲: "赤外エバネセント光によるシリコンウェハ加工表面層の微小欠陥検出に関する研究-エバネセント光発生メカニズムのFDTD解析-"1999年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集. 仙台. 566-566 (1999)

Shigeya Kenmochi、Takashi Miyoshi、Hirohiro Takatani、Satoshi Takahashi：“利用红外倏逝光检测硅晶片加工表面层微小缺陷的研究 - 倏逝光产生机制的 FDTD 分析 -” 1999 日本精密工程学会秋季会议学术演讲会议演讲论文集。566-566（1999）。