S.Hama et al.: "A New PZT Thin Films Preparation Technique using Solid Oxygen Source Target by RF Reactive Sputtering"Proc. of 2002 IEEE Int. Couf. on Semiconductor Electronics. 378-382 (2002)
S.Hama et al.: "A New PZT Thin Films Preparation Technique using Solid Oxygen Source Target by RF Reactive Sputtering"Proc. of 2002 IEEE Int. Couf. on Semiconductor Electronics. 378-382 (2002)
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S.Hama 等人：“通过射频反应溅射使用固体氧源靶材制备新型 PZT 薄膜的技术”Proc。
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