INFRARED-SPECTROSCOPY OF SI(111) AND SI(100) SURFACES AFTER HF TREATMENT - HYDROGEN TERMINATION AND SURFACE-MORPHOLOGY

INFRARED-SPECTROSCOPY OF SI(111) AND SI(100) SURFACES AFTER HF TREATMENT - HYDROGEN TERMINATION AND SURFACE-MORPHOLOGY
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DOI：
10.1116/1.575980
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发表时间：
1989-05-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子：
--
通讯作者：
BURROWS, VA
BURROWS, VA
中科院分区：
其他
文献类型：
--
作者：
CHABAL, YJ;HIGASHI, GS;BURROWS, VA

文献摘要

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