Takeshi AOKI: "Optimum Conditions for Producing High Quality a‐Ge:H Films by ECR Plasma" Jpn.J.Appl.Phys.
Takeshi AOKI: "Optimum Conditions for Producing High Quality a‐Ge:H Films by ECR Plasma" Jpn.J.Appl.Phys.
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Takeshi AOKI：“通过 ECR 等离子体生产高质量 a-Ge:H 薄膜的最佳条件”Jpn.J.Appl.Phys。
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