低温ALD成長したWS2薄膜の素子応用
低温ALD成長したWS2薄膜の素子応用
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低温ALD生长WS2薄膜的器件应用
DOI:
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发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
上野 啓司
中科院分区:
文献类型:
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作者:
福島 崇史;上野 啓司