M.Morita,K.Nsimura,S.Urabe: "Si Oxidation in Heating-up for Gate Oxide Formation" International Symposium on Future of Intellectual Integrated Electronics. (1999)
M.Morita,K.Nsimura,S.Urabe: "Si Oxidation in Heating-up for Gate Oxide Formation" International Symposium on Future of Intellectual Integrated Electronics. (1999)
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M.Morita、K.Nsimura、S.Urabe：“栅极氧化物形成加热过程中的硅氧化”智能集成电子未来国际研讨会。
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