Advantages of Ge (111) Surface for High Quality HfO_2/Ge Interface
Advantages of Ge (111) Surface for High Quality HfO_2/Ge Interface
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Ge(111)表面的高质量HfO_2/Ge界面的优势
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A.Toriumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Toyama;K.Kita;K.Kyuno;A.Toriumi
