Epitaxial Growth and Thermoelectric Properties of Stacking Structures of Iron Silicide Nanodots/Si
Epitaxial Growth and Thermoelectric Properties of Stacking Structures of Iron Silicide Nanodots/Si
复制标题
硅化铁纳米点/Si堆叠结构的外延生长和热电性能
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Sakai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshiaki Nakamura;Masayuki Isogawa;Shuto Yamasaka;Shinya Tsurusaki;Shotaro Takeuchi;Akira Sakai
