Shinichi Kikkawae Deposition Process and Some Characteristics of TiS_2 Prepared by Plasma CVD: "Mem.Inst.Sci.Ind.Res.,Osaka Univ.(in press)"
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Shinichi Kikkawae 沉积工艺和等离子 CVD 制备 TiS_2 的一些特性：“Mem.Inst.Sci.Ind.Res.,Osaka Univ.(in press)”
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