GaInN/GaN成長時の格子緩和過程に対するSiアンチサーファクタント効果
GaInN/GaN成長時の格子緩和過程に対するSiアンチサーファクタント効果
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Si 抗表面活性剂对 GaInN/GaN 生长过程中晶格弛豫过程的影响
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
本田 徹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
横山 晴香;山口 智広;佐々木 拓生;大野 颯一朗;木口 賢紀;比留川 大輝;藤川 誠司;高橋 正光;尾沼 猛儀;本田 徹
