Photoelectrical properties of hydrogen terminated diamond exposed to ArF excimer laser pulses
Photoelectrical properties of hydrogen terminated diamond exposed to ArF excimer laser pulses
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暴露于 ArF 准分子激光脉冲的氢封端金刚石的光电特性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and J. P. Kleider
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Alvarez;M.Y. Liao;Y. Koide;and J. P. Kleider
