Dynamics of radicalcation of poly(styrene acrylate)-based chemically amplified resist for extreme ultraviolet and electron beam lithography
Dynamics of radicalcation of poly(styrene acrylate)-based chemically amplified resist for extreme ultraviolet and electron beam lithography
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用于极紫外和电子束光刻的聚（苯乙烯丙烯酸酯）基化学放大型抗蚀剂的自由基动力学
DOI：
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发表时间：
2011
影响因子：
1.5
通讯作者：
Yasuharu Tajima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Narushima;F. Castejon;S. Sakakibara;Yasuharu Tajima
