偏光ラマン測定を用いたGaAsN薄膜のアニール処理が及ぼす影響の評価
偏光ラマン測定を用いたGaAsN薄膜のアニール処理が及ぼす影響の評価
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使用偏振拉曼测量评估退火对 GaAsN 薄膜的影响
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
鈴木 秀俊
中科院分区：
文献类型：
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作者：
和田 季己;橋本 英明;横山 祐貴;前田 幸治;鈴木 秀俊
