RFスパッタリングによるアモルファスSi/SiO_2超格子構造の作製とその発光特性
RFスパッタリングによるアモルファスSi/SiO_2超格子構造の作製とその発光特性
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射频溅射非晶Si/SiO_2超晶格结构的制备及其发光性能
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
花泉 修
中科院分区：
文献类型：
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作者：
加藤 裕司;種村 豪;星野 ひとみ;三浦 健太;花泉 修
