Impact of SixGe1-x-ySny interlayer on reduction in Schottky barrier height of metal/n-Ge contact
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SixGe1-x-ySny 中间层对金属/n-Ge 接触肖特基势垒高度降低的影响
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Zaima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Suzuki;S. Toda;O. Nakatsuka;M. Sakashita;and S. Zaima
