M. Goto: "High-Quality a-Si : H Film Deposition on Low-Temperature Substrate in Inductively Coupled Silane Plasma" Proc. 3rd Int. Conf. on Reactive Plasmas. 136-139 (1997)
M. Goto: "High-Quality a-Si : H Film Deposition on Low-Temperature Substrate in Inductively Coupled Silane Plasma" Proc. 3rd Int. Conf. on Reactive Plasmas. 136-139 (1997)
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M. Goto：“高质量非晶硅：电感耦合硅烷等离子体中低温衬底上的 H 薄膜沉积”Proc。
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