Reactive etching with ClF3-Ar neutral cluster beam
Reactive etching with ClF3-Ar neutral cluster beam
复制标题
使用 ClF3-Ar 中性簇束进行反应蚀刻
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Aoki and J. Matsuo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Seki;M. Kusakari;M. Fujii;T. Aoki and J. Matsuo
