Structural and optical properties of Ga2(1−x)In2xO3 films prepared on α-Al2O3 (0 0 0 1) by MOCVD
Structural and optical properties of Ga2(1−x)In2xO3 films prepared on α-Al2O3 (0 0 0 1) by MOCVD
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MOCVD 在 α-Al2O3 (0 0 0 1) 上制备的 Ga2(1−x)In2xO3 薄膜的结构和光学性质
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
L. Kong
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Fan Yang;Jin Ma;Caina Luan;L. Kong
