Qu,W.F.,Kitagawa,A..他: "Impurity Activation in Poly-Si films by Rapid Thermal Annealing using Flat Gas Flames." Proc.of 3rd Intern. Rapid Therm. Processing Conf.307-311 (1995)
Qu,W.F.,Kitagawa,A..他: "Impurity Activation in Poly-Si films by Rapid Thermal Annealing using Flat Gas Flames." Proc.of 3rd Intern. Rapid Therm. Processing Conf.307-311 (1995)
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Qu, W.F., Kitakawa, A.. 等人：“使用扁平气体火焰进行快速热退火的多晶硅薄膜中的杂质激活”，第三届快速热加工会议论文集（Proc）。
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