A.Noya et.al.: "AES study on the Stability of the interface between depsited Cu_9Al_4 intermetallic compound film and Si" Jpn.J.Appl.Phys.Pt.2. 30,4. (1991)
A.Noya et.al.: "AES study on the Stability of the interface between depsited Cu_9Al_4 intermetallic compound film and Si" Jpn.J.Appl.Phys.Pt.2. 30,4. (1991)
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A.Noya等人：“AES研究depsited Cu_9Al_4金属间化合物薄膜与Si之间界面的稳定性”Jpn.J.Appl.Phys.Pt.2。
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