Fluorescence correlation spectroscopy in thin films at reflecting substrates as a means to study nanoscale structure and dynamics at soft-matter interfaces.
Fluorescence correlation spectroscopy in thin films at reflecting substrates as a means to study nanoscale structure and dynamics at soft-matter interfaces.
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反射基底薄膜中的荧光相关光谱作为研究软物质界面纳米级结构和动力学的一种手段
DOI：
10.1103/physreve.94.012804
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Schulz
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
D. Täuber;K. Radscheit;C. von Borczyskowski;V. Al. Osipov;M. Schulz
软物质界面的结构和动力学在自然界和技术应用中起着重要的作用。光学单分子研究是非侵入性的，能够揭示纳米尺度的异质性。在这项工作中，我们开发了一个自相关函数（ACF）的方法来检索示踪剂的扩散参数从荧光相关光谱（FCS）实验在反射基板上的薄液膜。然后，这种方法被用来研究在100 nm厚的8 CB液晶薄膜的硅晶片上具有五个不同的氧化物厚度的结构和动力学。我们发现一个不同的延伸的结构重新取向的8 CB在固-液界面薄和厚氧化物。对于薄的氧化物，perylenediimide示踪剂扩散动力学一般同意与流体动力学建模使用无滑移边界条件，只有一个小的偏差接近基板，而一个相当强的减少界面示踪剂扩散厚的氧化物。
Structure and dynamics at soft-matter interfaces play an important role in nature and technical applications. Optical single-molecule investigations are noninvasive and capable to reveal heterogeneities at the nanoscale. In this work we develop an autocorrelation function (ACF) approach to retrieve tracer diffusion parameters obtained from fluorescence correlation spectroscopy (FCS) experiments in thin liquid films at reflecting substrates. This approach then is used to investigate structure and dynamics in 100-nm-thick 8CB liquid crystal films on silicon wafers with five different oxide thicknesses. We find a different extension of the structural reorientation of 8CB at the solid-liquid interface for thin and for thick oxide. For the thin oxides, the perylenediimide tracer diffusion dynamics in general agrees with the hydrodynamic modeling using no-slip boundary conditions with only a small deviation close to the substrate, while a considerably stronger decrease of the interfacial tracer diffusion is found for the thick oxides.
DOI：
10.1021/issn.1520-6106
发表时间：
--
期刊：
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影响因子：
--
作者：
通讯作者：
--
影响因子：
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作者：
Y. Engelborghs;A. Visser
通讯作者：
A. Visser
影响因子：
56.9
作者：
V. Gates;.. M. L. Ludwig-M.-L.-Ludwig-2273875465;J. A. Hartsuck;T. A. Steitz;H. Muirhead;J. C. Coppola;G. N. Reeke
通讯作者：
V. Gates;.. M. L. Ludwig-M.-L.-Ludwig-2273875465;J. A. Hartsuck;T. A. Steitz;H. Muirhead;J. C. Coppola;G. N. Reeke