低速陽電子ビームを用いたCu/Low-k配線構造中の欠陥検出
低速陽電子ビームを用いたCu/Low-k配線構造中の欠陥検出
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使用慢正电子束检测 Cu/低 k 互连结构中的缺陷
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
上殿明良,井上尚也,林喜宏,江口和弘,中村友二,廣瀬幸範,吉丸正樹,大島永康,大平俊行,鈴木良一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Tanimoto;K. Yamada;H. Mizubayashi;Y. Matsumoto;H. Naramoto;S. Sakai;A.Uedono;上殿明良,井上尚也,林喜宏,江口和弘,中村友二,廣瀬幸範,吉丸正樹,大島永康,大平俊行,鈴木良一
