Design of CMP slurry in CMP SiC crystal substrate (0001) Si surfacebased on alumina (Al2O3) abrasive
Design of CMP slurry in CMP SiC crystal substrate (0001) Si surfacebased on alumina (Al2O3) abrasive
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基于氧化铝（Al2O3）磨料的CMP SiC晶体基片（0001）Si表面CMP浆料的设计
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Su Jianxiu,Zhang Zhuqing,Liu Xinglong
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Su Jianxiu,Zhang Zhuqing,Liu Xinglong
