Molecular dynamics simulation of oxide-nitride bilayer etching with energetic fluorocarbon ions
Molecular dynamics simulation of oxide-nitride bilayer etching with energetic fluorocarbon ions
复制标题
高能氟碳离子氮氧化物双层刻蚀的分子动力学模拟
DOI：
10.1116/6.0002182
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发表时间：
2022
影响因子：
2.9
通讯作者：
Hamaguchi Satoshi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Cagomoc Charisse Marie D.;Isobe Michiro;Hudson Eric A.;Hamaguchi Satoshi
