溶融LiF-KF-KCl 中のシリコンイオンの拡散係数測定
溶融LiF-KF-KCl 中のシリコンイオンの拡散係数測定
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熔融LiF-KF-KCl中硅离子扩散系数的测量
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
真壁太一，Xin Lu，竹田修，朱鴻民
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ken Takata;Kohsaku Ushioda;Kenji Kaneko;Ryutaro Akiyoshi;Ken-ichi Ikeda;Satoshi Hata;Hideharu Nakashima;真壁太一，Xin Lu，竹田修，朱鴻民
