白谷正治: "RF電圧振幅変調によるプロセスプラズマの反応制御" 九州大学工学集報. 62. 677-682 (1989)
白谷正治: "RF電圧振幅変調によるプロセスプラズマの反応制御" 九州大学工学集報. 62. 677-682 (1989)
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Masaharu Shiratani：“通过射频电压幅度调制对过程等离子体进行反应控制”九州大学工程通报 62. 677-682 (1989)。
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