Growth kinetics of very thin oxide on Si and Ti surfaces studied by real-time surface analytical methods
Growth kinetics of very thin oxide on Si and Ti surfaces studied by real-time surface analytical methods
复制标题
通过实时表面分析方法研究 Si 和 Ti 表面上极薄氧化物的生长动力学
DOI：
--
复制
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Takakuwa et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K.Fukutani;K.Niki;T.Ito;H.Tashiro;M.Matsumoto;M.Wilde;T.Okano;W.A.Dino;H.Kasai;S.Ogawa;S.Ogawa;高桑雄二;S.Ogawa et al.;S.Ogawa et al.;Y.Takakuwa et al.
