Gas cluster ion beam infusion processing of semiconductors
Gas cluster ion beam infusion processing of semiconductors
复制标题
半导体气体团簇离子束注入加工
DOI：
10.1016/j.nimb.2005.08.074
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发表时间：
2006
影响因子：
1.3
通讯作者：
S. Sherman
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. MacCrimmon;J. Hautala;M. Gwinn;S. Sherman
