CVD/ALD薄膜成長における材料/プロセスと構造/組成の最適化に向けた 反応性力場分子動力学法および密度汎関数法による数値シミュレーション研究
CVD/ALD薄膜成長における材料/プロセスと構造/組成の最適化に向けた 反応性力場分子動力学法および密度汎関数法による数値シミュレーション研究
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利用反作用力场分子动力学方法和密度泛函理论进行数值模拟研究，优化 CVD/ALD 薄膜生长中的材料/工艺和结构/成分
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
馬渕拓哉，Jin Yong，財津優，安原重雄，徳増崇
中科院分区：
文献类型：
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作者：
上根直也;馬渕拓哉，Jin Yong，財津優，安原重雄，徳増崇
