Tatsuru Shirafuji: "Plasma CVD of Low-Dielectric Constant Insulator Films Using Fluorocarbon Gas with Si(NCO)_4" Technical Report of IEICE. SDM97・172. 57-64 (1997)
Tatsuru Shirafuji: "Plasma CVD of Low-Dielectric Constant Insulator Films Using Fluorocarbon Gas with Si(NCO)_4" Technical Report of IEICE. SDM97・172. 57-64 (1997)
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Tatsuru Shirafuji：“使用氟碳气体与 Si(NCO)_4 的低介电常数绝缘体薄膜的等离子体 CVD”SDM97・172 (1997) 的技术报告。
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