Influence of residual stress on the determination of Young's modulus for SiO2 thin film by the surface acoustic waves
Influence of residual stress on the determination of Young's modulus for SiO2 thin film by the surface acoustic waves
复制标题
残余应力对声表面波测定SiO2薄膜杨氏模量的影响
DOI：
10.7567/1347-4065/ab1a28
复制
发表时间：
2019-07-01
影响因子：
1.5
通讯作者：
Qi，Haiyang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Qin，Huiquan;Xiao，Xia;Qi，Haiyang
