Quality Evaluation of Hydrogenation of Silicon Nitride Films Prepared by RPECVD

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RPECVD氢化氮化硅薄膜的质量评价

DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
Technical Digest of 17th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
影响因子：
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通讯作者：
Y. Suzuki
Y. Suzuki
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
M. Kashiwagi;M. Taniguchi;M. Dairaku;H. P. L. de Esch;L. R. Grisham;L. Svensson;H. Tobari;N. Umeda;K. Watanabe;K. Sakamoto;T. Inoue;K. Kawachi;Y. Suzuki

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