K.Fukushima: "Low Temperature Epitaxial Growth of TiO_2 Rutile Films by ICB Deposition and Mechanical Properties in Helium Implanted Rutile Films" Materials Research Society Symposium Proceedings. 316. 905-910 (1994)
K.Fukushima: "Low Temperature Epitaxial Growth of TiO_2 Rutile Films by ICB Deposition and Mechanical Properties in Helium Implanted Rutile Films" Materials Research Society Symposium Proceedings. 316. 905-910 (1994)
复制标题
K.Fukushima：“通过ICB沉积实现TiO_2金红石薄膜的低温外延生长以及氦注入金红石薄膜的机械性能”材料研究会研讨会论文集。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
