真空局所CVDプロセスにより形成された基板上ナノカーボン構造の物性評価
真空局所CVDプロセスにより形成された基板上ナノカーボン構造の物性評価
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真空局部 CVD 工艺形成的基底上纳米碳结构物理性能的评估
DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
鈴木仁
中科院分区:
文献类型:
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作者:
田中秀吉;富成征弘;鈴木仁