First principles methods for defects: state-of-the-art and emerging approaches in Characterisation and Control of Defects in Semiconductors
First principles methods for defects: state-of-the-art and emerging approaches in Characterisation and Control of Defects in Semiconductors
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缺陷的第一原理方法：半导体缺陷表征和控制的最先进和新兴方法
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Raebiger Hannes
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ertekin Elif;Raebiger Hannes
