T.Komiya,H.Kujirai,and J.Hanna: "Lowーtemperature Epitaxy of Si at High Deposition Rates by Spontaneous Chemical Deposition" Proc.11th Int.Conf.on CVD. 270-276 (1990)
T.Komiya,H.Kujirai,and J.Hanna: "Lowーtemperature Epitaxy of Si at High Deposition Rates by Spontaneous Chemical Deposition" Proc.11th Int.Conf.on CVD. 270-276 (1990)
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T.Komiya、H.Kujirai 和 J.Hanna：“通过自发化学沉积在高沉积速率下进行硅的低温外延”Proc.11th Int.Conf.on CVD 270-276 (1990)。
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