Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Hydrogenated Diamond-Like Carbon Films by Atmospheric-Pressure Micro Plasmas
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大气压微等离子体等离子体增强化学气相沉积氢化类金刚石碳膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
R. Nishimura and H. Yoshiki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
榎本 紗菜;梅田 実優;鈴木 晴;R. Nishimura and H. Yoshiki
