Sensitization Distance and Acid Generation Efficiency in a Model System of Chemically Amplified Electron Beam Resist with Methacrylate Backbone Polymer
Sensitization Distance and Acid Generation Efficiency in a Model System of Chemically Amplified Electron Beam Resist with Methacrylate Backbone Polymer
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甲基丙烯酸酯主链聚合物化学放大电子束抗蚀剂模型体系中的敏化距离和产酸效率
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and T. Shimokawa
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;and T. Shimokawa
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