T. Uno and S. Noge: "Piezoelectricity in Poled Ge-Doped Silica Thin Films"Jpn. J. Appl. Phys.. Vol. 41. 3431-3432 (2002)
T. Uno and S. Noge: "Piezoelectricity in Poled Ge-Doped Silica Thin Films"Jpn. J. Appl. Phys.. Vol. 41. 3431-3432 (2002)
复制标题
T. Uno 和 S. Noge:“极化掺锗二氧化硅薄膜中的压电性”Jpn。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: