Carbon monoxide interacting with free-electron-laser pulses
Carbon monoxide interacting with free-electron-laser pulses
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一氧化碳与自由电子激光脉冲相互作用
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Emmanouilidou
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H. Banks;A. Hadjipittas;A. Emmanouilidou
我们研究了异核双原子分子一氧化碳与自由电子激光脉冲的相互作用。我们计算离子产率和填充离子产率的中间态。我们使用速率方程，计算所有相关的分子和原子光电离截面和俄歇速率。我们发现碳和氧离子产率的电荷分布是不同的。通过改变光子能量，我们演示了如何控制主要由碳或氧填充的高电荷态。此外，我们还确定了同核分子氮分子和异核分子一氧化碳在与FEL脉冲相互作用时产生的离子产率和填充这些产率的途径的差异。这两个分子有相似的电子结构。我们还确定了每个离子产率达到两个位点双核空穴状态的比例，并调整脉冲参数以最大化这一比例。
We study the interaction of a heteronuclear diatomic molecule, carbon monoxide, with a free-electron laser (FEL) pulse. We compute the ion yields and the intermediate states by which the ion yields are populated. We do so using rate equations, computing all relevant molecular and atomic photo-ionisation cross-sections and Auger rates. We find that the charge distribution of the carbon and oxygen ion yields differ. By varying the photon energy, we demonstrate how to control higher-charged states being populated mostly by carbon or oxygen. Moreover, we identify the differences in the resulting ion yields and pathways populating these yields between a homonuclear molecule, molecular nitrogen, and a heteronuclear molecule, carbon monoxide, interacting with an FEL pulse. These two molecules have similar electronic structure. We also identify the proportion of each ion yield which accesses a two-site double-core-hole state and tailor pulse parameters to maximise this proportion.
DOI：
10.1126/science.1229663
发表时间：
2013-01-11
期刊：
Science (New York, N.Y.)
影响因子：
--
作者：
Redecke L;Nass K;DePonte DP;White TA;Rehders D;Barty A;Stellato F;Liang M;Barends TRM;Boutet S;Williams GJ;Messerschmidt M;Seibert MM;Aquila A;Arnlund D;Bajt S;Barth T;Bogan MJ;Caleman C;Chao TC;Doak RB;Fleckenstein H;Frank M;Fromme R;Galli L;Grotjohann I;Hunter MS;Johansson LC;Kassemeyer S;Katona G;Kirian RA;Koopmann R;Kupitz C;Lomb L;Martin AV;Mogk S;Neutze R;Shoeman RL;Steinbrener J;Timneanu N;Wang D;Weierstall U;Zatsepin NA;Spence JCH;Fromme P;Schlichting I;Duszenko M;Betzel C;Chapman HN
通讯作者：
Chapman HN
自由电子激光对氩进行内壳电离后的俄歇光谱
影响因子：
2.9
作者：
Wallis A
通讯作者：
Wallis A
影响因子：
6.8
作者：
Schlichting I;Miao J
通讯作者：
Miao J