ナノホールレジストマスクを用いた低エネルギーイオン注入による量子センシングのためのNVセンター配列の作製
ナノホールレジストマスクを用いた低エネルギーイオン注入による量子センシングのためのNVセンター配列の作製
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使用纳米孔抗蚀剂掩模通过低能离子注入制造用于量子传感的 NV 中心阵列
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
谷井孝至
中科院分区：
文献类型：
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作者：
東又格;岡田拓真;加賀美理沙;寺地徳之;小野田忍;春山盛善;山田圭介;稲葉優文;山野颯;P. Balasubramanian;L. P McGuinness;B. Naydenov;F. Jelezko;大島武;品田高宏;川原田洋;加田渉;花泉修;磯谷順一;谷井孝至
