R.Hatakeyama: "High Yield Production of C_<74> Using an Arc-Discharge Plasma" Thin Solid Films. 316. 51-55 (1998)
R.Hatakeyama: "High Yield Production of C_<74> Using an Arc-Discharge Plasma" Thin Solid Films. 316. 51-55 (1998)
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R.Hatakeyama：“使用电弧放电等离子体高产生产 C_<74>”固体薄膜。
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