Influence of Positive Substrate Bias on the Electrical Properties of ZnO:Al Films Prepared by DC Magnetron Sputtering
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正基片偏压对直流磁控溅射ZnO:Al薄膜电性能的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
D. Kwak
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D. Lim;G. Kang;S. Kwon;M. Park;D. Kwak
