G.Tochitani: "Deposition of silicon oxide films from TEOS by low frequency plasma chemical vapor deposition" J.Vac.Sci.Technol.A,. (1993)
G.Tochitani: "Deposition of silicon oxide films from TEOS by low frequency plasma chemical vapor deposition" J.Vac.Sci.Technol.A,. (1993)
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G.Tochitani：“通过低频等离子体化学气相沉积从 TEOS 沉积氧化硅薄膜”J.Vac.Sci.Technol.A，。
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