Origin of Preferential Diffusion of Ni along Si/SiO2 Interface in Si Nanowire
Origin of Preferential Diffusion of Ni along Si/SiO2 Interface in Si Nanowire
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Ni在Si纳米线中沿Si/SiO2界面优先扩散的起源
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Takanobu Watanabe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shuichiro Hashimoto;Kohei Takei;Jing Sun;Shuhei Asada;Xu Zhang;Taiyu Xu;Toshihiro Usuda;Motohiro Tomita;Ryosuke Imai;Atsushi Ogura;Takashi Matsukawa;Meishoku Masahara;and Takanobu Watanabe
